一、適用范圍

鍍層均勻性及鍍層質(zhì)量要求較高的電鍍、電鑄處理工藝。

二、應用領域

應用于電子、封裝、精密元器件、新材料等產(chǎn)品的電鍍、電鑄工藝處理。

三、設備特點

1、擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，獲得國家發(fā)明專利；（專利號：ZL  2011 1 0417893.6  專利類型：中國發(fā)明專利）（專利號：ZL 2011 1 0417892.1 專利類型：中國發(fā)明專利）

2、旋轉(zhuǎn)方式多樣，可實現(xiàn)公轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速、轉(zhuǎn)向可調(diào)；

3、傳動方式多樣可實現(xiàn)上傳動、下傳動，亦可根據(jù)用戶要求定制；

4、大幅改善電力場、溫度場、濃度場的均勻性，提高鍍層質(zhì)量及均勻性， COV值較傳統(tǒng)掛鍍提高5-10倍。

四、應用現(xiàn)場